Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
Customized Size Heat Resistant Fused Clear Quartz Tube Large Diameter Quartz Glass Tube
ท่อควอทซ์ใสผสมขนาดที่กำหนดเองที่มีความบริสุทธิ์ SiO₂ 99.99% อุณหภูมิในการทำงานสูงถึง 1100°C ช่วง OD 10-10000 มม. เหมาะสำหรับสารกึ่งตัวนำ เตาเผาที่มีอุณหภูมิสูง และการใช้งานในห้องปฏิบัติการ มีตัวอย่างฟรีพร้อมบริการเจาะ/ตัด
Customized Polishing Laser Drilling Quartz Glass Sheet High Purity Quartz Plate for Semiconductor
แผ่นแก้วควอทซ์เจาะด้วยเลเซอร์ขัดแบบกำหนดเองที่มีความบริสุทธิ์ SiO₂ 99.99% สำหรับการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์ โดดเด่นด้วยความทนทานต่ออุณหภูมิสูง (อุณหภูมิทำงาน 1100°C) ความหนาแน่น 2.2 ก./ซม. และรองรับการตัด/เจาะแบบกำหนดเองพร้อมตัวอย่างฟรี
เรือควอตซ์ซิลิก้าหลอมความบริสุทธิ์สูง เรือควอตซ์ทนอุณหภูมิสูง สําหรับโรงไฟท่อ
Custom Silicon Wafer Cleaning Rack Quartz Groove Boat High Temperature Resistant Shengfan Quartz Plate Characteristics Property Specification Brand Shengfan Quartz SiO₂ 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Annealing Point 1180℃ ...
UV Transparent Quartz Glass Plate Fused Silica Sheet with 99.99% SiO2 and Custom Size
แผ่นแก้วซิลิกาควอตซ์ผสมความบริสุทธิ์สูง SiO2 99.99%, การส่งผ่านแสง >92%, โปร่งใส UV, ความหนา 0.5-100 มม., อุณหภูมิในการทำงาน 1150 ℃ ขนาดที่กำหนดเอง มาตรฐาน JGS ทนการกัดกร่อน ทนอุณหภูมิสูง เป็นฉนวนไฟฟ้าที่แข็งแกร่ง
ทนต่ออุณหภูมิสูง หลอดควอตซ์ขนาดใหญ่ สวยใสสําหรับเตาหลอด
หลอดแก้วควอทซ์อุณหภูมิสูงที่มีความบริสุทธิ์ SiO₂ 99.99% อุณหภูมิในการทำงานสูงถึง 1100°C ช่วง OD 10-10000 มม. เหมาะสำหรับงานเซมิคอนดักเตอร์ ห้องปฏิบัติการ และเตาอุตสาหกรรม การตัด/เจาะแบบกำหนดเองพร้อมตัวอย่างฟรี
High Transmittance Fused Silica High Pressure Resistant Polishing Quartz Glass Tube for Semiconductor
หลอดแก้วซิลิกาควอทซ์หลอมละลายการส่งผ่านสูงที่มีปริมาณ SiO₂ 99.99% อุณหภูมิในการทำงานสูงถึง 1100°C ช่วง OD 10-10000 มม. เหมาะสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เตาเผาอุณหภูมิสูง และเครื่องปฏิกรณ์ในห้องปฏิบัติการ การตัด/เจาะแบบกำหนดเองพร้อมตัวอย่างฟรี
หลอดแก้วซิลิก้าควอตซ์หลอมความบริสุทธิ์สูง ทนต่ออุณหภูมิสูง 1100 °C ขนาดตามสั่ง 1 มม-1000 มม สําหรับห้องปฏิบัติการ
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
โรงงานตรง ความบริสุทธิ์สูง ทนต่อความร้อน 1200 °C ท่อควอาร์ตซ์โปร่งใสสําหรับครึ่งตัวนํา
หลอดควอทซ์ความบริสุทธิ์สูงโดยตรงจากโรงงานที่มีปริมาณ SiO₂ 99.99% ทนทานต่ออุณหภูมิ 1200°C ขนาดที่กำหนดเอง 10-10000 มม. OD เหมาะสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ เตาเผาอุณหภูมิสูง และการใช้งานในห้องปฏิบัติการ มีตัวอย่างฟรี
