Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
Precision Machined Drilled Quartz Plate JGS1 JGS2 JGS3 Perforated Quartz Plate for Semiconductor
แผ่นควอตซ์เจาะด้วยเครื่องจักรอย่างแม่นยำในเกรด JGS1/JGS2/JGS3 สำหรับการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์ นำเสนอความบริสุทธิ์ SiO₂ 99.99% อุณหภูมิในการทำงาน 1100° และบริการเจาะ/ตัดแบบกำหนดเอง มีจำหน่ายในซิลิกาหลอมละลายโปร่งใสพร้อมตัวอย่างฟรีและปริมาณขั้นต่ำที่ต่ำ
ผงแก้วซิลิก้าควอตซ์หลอมใส JGS1 JGS2 JGS3 ทนต่ออุณหภูมิสูง สําหรับการผลิตครึ่งประสาท
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
UV กระจกใส ความบริสุทธิ์สูง Quartz กระจกแผ่นหลอมแผ่นซิลิก้าขนาดที่กําหนดเองสําหรับอุปกรณ์เลเซอร์
แผ่นแก้วควอทซ์โปร่งใส UV ที่มีความบริสุทธิ์ SiO2 >99.99%, การส่งผ่านแสง >92% และอุณหภูมิในการทำงาน 1150°C มีความหนา 0.5-100 มม. มาตรฐาน JGS1/JGS2/JGS3 ขนาดและรูปร่างที่กำหนดเองซึ่งผลิตตามข้อกำหนดเฉพาะของคุณสำหรับอุปกรณ์เลเซอร์และการใช้งานในอุตสาหกรรม
ขนาดที่กําหนดเอง UV กระจกกระจกควอตซ์ทนอุณหภูมิสูงโปร่งใส สําหรับอุปกรณ์ครึ่งนํา
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
โรงงานตรง ความบริสุทธิ์สูง ทนต่อความร้อน 1200 °C ท่อควอาร์ตซ์โปร่งใสสําหรับครึ่งตัวนํา
หลอดควอทซ์ความบริสุทธิ์สูงโดยตรงจากโรงงานที่มีปริมาณ SiO₂ 99.99% ทนทานต่ออุณหภูมิ 1200°C ขนาดที่กำหนดเอง 10-10000 มม. OD เหมาะสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ เตาเผาอุณหภูมิสูง และการใช้งานในห้องปฏิบัติการ มีตัวอย่างฟรี
หลอดแก้วควอตซ์ทนความร้อนสูง 1100° ทนการกัดกร่อน 99.99% SiO₂ สำหรับการใช้งานในเตาหลอม
หลอดแก้วควอทซ์ทนอุณหภูมิสูง 1100°C พร้อมความบริสุทธิ์ SiO₂ 99.99% ทนต่อการกัดกร่อน ความหนาแน่น 2.2 ก./ซม.³ เหมาะสำหรับเตาเผา อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และการใช้งานในห้องปฏิบัติการ ตัวเลือกที่กำหนดเองใช้ได้กับการรับรอง ISO9001, CE, RoHS
แผ่นควอตซ์หลอมเหลวความบริสุทธิ์สูงของผู้ผลิต แผ่นซิลิกาหลอมเหลวควอตซ์ขนาดกำหนดเองความบริสุทธิ์สูง แผ่นกระจกควอตซ์
แผ่นแก้วควอตซ์หลอมแบบกำหนดเองที่มีความบริสุทธิ์ 99.99% อุณหภูมิในการทำงาน 1100°C การส่งผ่านแสง 92% และความแข็งมอร์ส 6.5 มีจำหน่ายในขนาด รูปร่าง และพื้นผิวขัดเงาที่กำหนดเองสำหรับงานเซมิคอนดักเตอร์ ออปติคอล และอุตสาหกรรม
แผ่นกระจกควอตซ์บริสุทธิ์ 99.99% ทนความร้อนสูง ขนาดสั่งทำพิเศษ แผ่นซิลิกาหลอมควอตซ์
แผ่นซิลิกาควอทซ์หลอมแบบกำหนดเองที่มีความบริสุทธิ์ 99.99% อุณหภูมิในการทำงาน 1100°C การส่งผ่านแสง 92% และความแข็งมอร์ส 6.5 มีจำหน่ายในรูปทรง ขนาด และพื้นผิวที่หลากหลายสำหรับงานเซมิคอนดักเตอร์ ออปติก และอุตสาหกรรม
