การจำแนกและการใช้แผ่นแก้วควอตซ์

การจำแนกและการใช้แก้วควอตซ์แผ่น

‌

แผ่นแก้วควอตซ์ ซึ่งขึ้นชื่อในด้านเสถียรภาพทางความร้อนสูงและความคมชัดทางแสง ได้รับการจำแนกตามความบริสุทธิ์ของวัสดุและเทคนิคการประมวลผล ทำให้สามารถใช้งานในอุตสาหกรรมได้หลากหลาย

ด้านล่างนี้คือประเภทหลักและการใช้งาน:

‌1. การจำแนกประเภทวัสดุ

‌

‌แผ่นฟิวส์ซิลิกา‌: ประกอบด้วยซิลิคอนไดออกไซด์ ≥99.99% แผ่นเหล่านี้ให้ความโปร่งใสของ UV ที่ยอดเยี่ยมและทนทานต่อการกระแทกจากความร้อน ทำให้เหมาะสำหรับการพิมพ์หินเซมิคอนดักเตอร์และระบบเลเซอร์

‌แผ่นควอตซ์บอโรซิลิเกต‌: ด้วยการเติมบอริกออกไซด์ ทำให้มีความเสถียรทางความร้อนที่เพิ่มขึ้นในราคาที่ต่ำกว่า เหมาะสำหรับอุปกรณ์ในห้องปฏิบัติการและการใช้งานด้านความร้อนในอุตสาหกรรม

‌แผ่นออกซีฮาไลด์เทลลูไรต์‌: เชี่ยวชาญสำหรับอุปกรณ์โฟโตนิกส์ ซึ่งช่วยให้สามารถกรองแสงขั้นสูงและเทคโนโลยีการเรืองแสงได้

• การใช้งานในอุตสาหกรรม

‌

‌การผลิตเซมิคอนดักเตอร์‌: แผ่นควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูงทำหน้าที่เป็นพื้นผิวสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์และห้องแพร่กระจาย เพื่อให้มั่นใจถึงสภาพแวดล้อมที่ปราศจากสิ่งปนเปื้อน ใช้เป็นพื้นผิวสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์และห้องแพร่กระจาย ซึ่งต้องการสิ่งเจือปนของโลหะต่ำเป็นพิเศษ (<0.5ppm) และเสถียรภาพทางความร้อนสูงถึง 1200°C

‌พลังงานหมุนเวียน‌: ใช้ในตัวรับความร้อนจากแสงอาทิตย์ แผ่นเหล่านี้ทนต่ออุณหภูมิสูงในขณะที่ยังคงประสิทธิภาพทางแสงไว้ได้

‌เทคโนโลยีนิวเคลียร์‌: ทดสอบความทนทานต่อแรงกระแทกสูงถึง 34.5 MPa แผ่นควอตซ์ถูกนำมาใช้ในระบบสังเกตการณ์เครื่องปฏิกรณ์เพื่อตรวจสอบพฤติกรรมของเชื้อเพลิงภายใต้สภาวะแรงดันสูง

‌ออปโตอิเล็กทรอนิกส์‌: แผ่นใส UV ช่วยให้การส่งผ่านแสงมีความแม่นยำในอุปกรณ์ไมโครออปติคัล โดยวัสดุเกรด JGS1 ให้การส่งผ่านแสง >80% ในช่วง 170-2500nm

ตลาดแผ่นแก้วควอตซ์กำลังเติบโตอย่างแข็งแกร่ง ซึ่งได้รับแรงหนุนจากการพัฒนาในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และเทคโนโลยีโฟโตนิกส์ แผ่นควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง (≥99.99% SiO₂) มีความสำคัญอย่างยิ่งสำหรับการพิมพ์หินอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) และระบบเลเซอร์