| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Mixed |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Mixed |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
| ชื่อสินค้า | แผ่นแก้วควอตซ์ |
|---|---|
| วัสดุ | SIO2>99.99% |
| ความหนาแน่น | 2.2ก./ตร.ซม |
| การส่งผ่านแสง | 92% |
| ความแข็ง | มอร์ส 6.5 |
| พิมพ์ | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปร่าง | สี่เหลี่ยม |
| บริการประมวลผล | เจาะ ตัด |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | จานควอตซ์ผสม |
|---|---|
| วัสดุ | SIO2> 99.99% |
| ความหนาแน่น | 2.2g / cm3 |
| ความแข็ง | มอร์ส 6.5 |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1150 ℃ |
| พิมพ์ | ล้างแผ่นควอตซ์ |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100 มม. |
| รูปร่าง | กลม |
| บริการแปรรูป | การต่อยการตัด |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | แก้วสายตาควอทซ์ |
|---|---|
| วัสดุ | 99.99% |
| การส่งผ่านแสง | 92% |
| ความหนาแน่น | 2.2g / cm3 |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
| ชื่อ | แก้วควอตซ์ |
|---|---|
| การส่งผ่านแสง | > 92% |
| ความหนาแน่น | 2.2g / cm3 |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
| ความแข็ง | มอร์ส 6.5 |
| พิมพ์ | ล้างแผ่นควอตซ์ |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100 มม. |
| รูปร่าง | กลม |
| บริการแปรรูป | การต่อยการตัด |
| พิมพ์ | ล้างแผ่นควอตซ์ |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100 มม. |
| รูปร่าง | กลม |
| บริการแปรรูป | การต่อยการตัด |
