| ประเภท | เครื่องบรรจุแผ่นวอล์ฟควาร์ทซ์ |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | สี่เหลี่ยม |
| บริการรับรอง | ดัด เชื่อม เจาะ ขัด |
| ประเภท | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | สี่เหลี่ยม |
| บริการรับรอง | เจาะ ตัด |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | เครื่องแก้วแล็บวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
| ทนกรด | 30 ครั้งกว่าเซรามิกส์ |
| ความแข็ง | มอร์ส 6.5 |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | เบ้าหลอมแก้วควอตซ์ |
|---|---|
| SIO2 | 99.99% |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1200 ℃ |
| จุดหลอมเหลว | 1750-1850 ℃ |
| การใช้ | ห้องปฏิบัติการชีววิทยาทางการแพทย์ |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | หลอดทดลองควอตซ์ |
|---|---|
| วัสดุ | ควอตซ์ผสม |
| ความหนาแน่น | 2.2g / cm3 |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
| จุดหลอมเหลว | 1750 ℃ |
| ชื่อผลิตภัณฑ์ | เล็บแก้วควอตซ์ |
|---|---|
| วัสดุ | SIO2 |
| ร่วมกัน | ชาย 14 มม. / 18 มม |
| มุมท่อ | 90 ° |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
| ประเภท | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | สี่เหลี่ยม |
| บริการรับรอง | ดัด เชื่อม เจาะ ขัด |
| ประเภท | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | สี่เหลี่ยม |
| บริการรับรอง | เจาะ ตัด |
| ประเภท | แผ่นควอตซ์ใส |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | สี่เหลี่ยม |
| บริการรับรอง | เจาะ ตัด |
