| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| ประเภท | หลอดควอทซ์ใส |
|---|---|
| การใช้งาน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100มม |
| รูปทรง | วงกลม |
| บริการรับรอง | ดัด เชื่อม เจาะ ขัด |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| คําสําคัญ | เครื่องแก้วห้องปฏิบัติการวิทยาศาสตร์ |
|---|---|
| ชื่อ | ห้องปฏิบัติการแก้วประมวลผลเครื่องดนตรีควอทซ์ที่กำหนดเอง |
| วัสดุ | ซิลิกอนผสม |
| อุณหภูมิการทํางาน | 1100 ℃ |
| ความทนทานต่อกรด | กว่าเซรามิกถึง 30 เท่า |
| พิมพ์ | ล้างแผ่นควอตซ์ |
|---|---|
| แอปพลิเคชัน | เซมิคอนดักเตอร์ออปติคัล |
| ความหนา | 0.5-100 มม. |
| รูปร่าง | สี่เหลี่ยม |
| บริการประมวลผล | การต่อยการตัด |
| วัสดุ | SIO2> 99.999% |
|---|---|
| ความหนาแน่น | 2.2 (g / cm3) |
| การส่งผ่านแสง | > 92% |
| ความแข็ง | มอร์ส 6.5 |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 1100 ℃ |
